кто нибудь
1. Назначение оксидных слоев в технологии полупроводниковых приборов и интегральных схем.

2. Методы получения пленок SiO2 при окислении кремния (сухое, влажное, пирогенное окисление).

3. Сравнительная характеристика технологических параметров окисления кремния и свойств получаемых пленок.

4. Вакуумные и другие методы осаждения пленок SiO2.

5. Выбор метода получения SiO2 для формирования пленок заданного качества и назначения.

6. Использование и получение пленок Si3N4

153

317

Посмотреть ответы 1

Ответы на вопрос:

Никитосик3456

4,6(76 оценок)

чем я вам насолил

Объяснение:

150 000+ пользователей

Оформить подписку